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收入保持高增,研发加码补齐国产高端设备短板,维持“买入”评级
公司全年实现收入90.65 亿元,yoy+44.73%,其中刻蚀设备约72.77 亿元,yoy+54.72%,为收入增长的主要因素;实现归母净利润16.16 亿元,yoy-9.53%;实现毛利率41.1%,同比下降2.7pct。单季度来看:公司2024Q4 实现35.58 亿元,qoq+72.76%;实现归母净利润7.03 亿元,qoq+77.32%;实现毛利率39.26pct,qoq-4.47pct;截至2024Q4末公司合同负债为25.86 亿元,同比+235.2%。随着公司更高价值量设备及新布局设备类型逐步在下游通过验证,以及研发投入继续增长,我们上修公司2025/2026 年收入,下修2025 年归母净利润,预计公司2025-2027 年收入将分别达到122/160/200亿元(2025/2026 年前值110/141 亿元),归母净利润将分别达到22/32/45 亿元(2025/2026 年前值24/32 亿元),以2025 年4 月17 日收盘价计算,2025-2027 年PE分别为54/38/27 倍,维持“买入”评级。
新品研发进展顺利,高端化+平台化布局稳步推进
公司各条线产品研发进展顺利:(1)刻蚀设备:逻辑芯片已经在从65 至5nm 及更先进节点量产;存储芯片方面,用于超高深宽比掩膜刻蚀的ICP 刻蚀机目前在生产线上验证顺利,工艺能力可以满足国内最先进的存储芯片制造的需求。此外,用于超高深宽比介质刻蚀的CCP 刻蚀设备也已量产。(2)MOCVD 设备:用于制造深紫外光LED 的高温MOCVD 设备PRISMO HiT3 和用于硅基氮化镓功率器件的MOCVD设备PRISMO PD5 已在客户生产线上验证通过并获得重复订单;用于Mini-LED 生产的MOCVD 设备PRISMO UniMax 亦开始进行规模化生产。(3)薄膜沉积设备:
公司已经实现六种薄膜沉积设备的高效研发与交付,其中LPCVD 薄膜设备累计出货量已突破150 个反应台,其他多个关键薄膜沉积设备研发项目的研发进程均比较顺利,有望尽快进入客户验证阶段。我们认为:随公司设备高端化与平台化战略逐步起效,公司市场空间与盈利能力同步提升,有望在未来为业绩增长做出贡献。
风险提示:下游晶圆厂扩产幅度不及预期,新品研发及导入进度不及预期。猜你喜欢
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