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本报告导读:
公司发布24Q3 业绩预报,业绩超预期,Q3 单季度营业收入达74.2~85.4 亿元,归母净利润达 15.6~17.9 亿元,公司同步拓展先进制程关键设备,看好公司长期发展。
投资要点:
维持增持评级,上调目标价至 495.6 元。公司为半导体设备龙头,充分受益于晶圆代工厂扩产及国产渗透率提升。公司订单饱和,收入实现高增长, 我们上调公司2024-2026 年EPS 业绩为11.80/15.48/22.21(原值10.52/14.75/21.18)元。参照行业估值41.7xPE,考虑公司为半导体前道设备龙头,核心产品刻蚀设备、薄膜沉积、清洗设备占前道设备资本开支合计接近50%,同步布局CVD、ALD、刻蚀设备等先进制程关键设备,市场空间广阔,给予公司2024年42 x PE,上调目标价至495.6 元,维持增持评级。
公司24Q3 业绩水平超预期,营收和净利润持续高增。公司发布2024Q3 业绩预告,营收、净利润持续高速增长,预计公司24 年前三季度营收达188.30~216.80 亿元,同比+29.08%~48.61%;归母净利润41.3~47.5 亿元,同比+43.19%~64.69%;扣非归母净利润39.50~45.40 亿元,同比+49.62%~71.97%。三季度公司业绩持续提升,取营收、净利润中间值,预计公司3Q24 营收79.8 亿元,同比+29.5%,环比+23.2%;归母净利润16.75 亿元,同比大增54.4%,环比+1.3%,主要得益于:1)公司订单饱和,订单转化度高;2)丰富产品矩阵,在先进制程渗透率提升。
公司作为平台型设备公司,充分受益于国产替代浪潮。在薄膜沉积领域,公司突破PVD、CVD 和ALD 等多项核心技术,截至2024 年H1,公司成功研发出高密度等离子体化学气相沉积(HDPCVD)、立式炉原子层沉积、高介电常数原子层沉积等多款具有自主知识产权的高端设备,并在多家客户端实现稳定量产。刻蚀领域,公司产品覆盖ICP、CCP、TSV、等离子去胶等关键领域,公司CCP 介质刻蚀设备实现了逻辑、存储、功率半导体等领域多个关键制程的覆盖,成功研发出双大马士革 CCP 刻蚀机,在多家客户实现稳定量产。随着下游晶圆厂持续扩产及半导体设备国产替代浪潮,公司作为半导体龙头,将持续受益。
催化剂:晶圆厂扩产积极;公司新品突破
风险提示:市场需求不及预期;公司产品验证不及预期QQ交流群586838595 |
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